米議員、中国半導体産業標的の法案を修正

主な修正点の概要

「MATCH法」として知られる、中国の半導体製造技術へのアクセスを制限することを目的とした米国の法案は、最新版で大幅に縮小されました。改訂された法案は、業界を警戒させていた一部の広範な国全体の規制を削除する一方で、オランダ企業ASML製の深紫外線（DUV）液浸リソグラフィー装置に対する標的型規制は維持しています。

状況の概要

ハードウェア技術管理の多国間連携（MATCH）法は、輸出管理のギャップを埋め、米国の政策を日本やオランダなどの同盟国と連携させるために、超党派の支持を得て導入されました。当初の草案は、売上を損なう可能性があるとして機器メーカーから批判を浴びた広範な制限を提案していました。より調整された新バージョンは、下院外交委員会での採決に先立って代替案として提示されています。

半導体市場への影響

改訂された法案は、米国を拠点とするラムリサーチと日本の東京エレクトロンが製造するツールに対する提案されていた制限を削除し、業界の懸念を緩和しました。しかし、すでに米国製ツールの受け取りを禁じられている施設で使用される、SMIC、YMTC、CXMTなどの主要な中国のチップメーカーへの外国企業による機器販売は依然として禁止されています。これにより、中国の半導体部門への圧力を維持しつつ、米国の機器サプライヤーにとっての競争条件を公平にしようとしています。

結論と展望

更新されたMATCH法は、半導体技術に対する米国の輸出管理へのより焦点を絞ったアプローチを示しています。当初の提案よりも厳しくはないものの、その法制化への進展は世界の半導体業界によって綿密に監視されるでしょう。主要な焦点は、中国を標的とした技術管理において統一戦線を構築するための同盟国との外交交渉に引き続き置かれています。

よくある質問

Q: MATCH法の主な目的は何ですか？
A: MATCH法は、米国とその同盟国、主にオランダと日本の間で技術輸出管理を連携させ、中国の半導体製造および人工知能における進歩を制限することを目的としています。

Q: 改訂された法案によって最も影響を受ける企業はどこですか？
A: オランダを拠点とするASMLは、そのDUV装置に対する新たな国全体の制限によって依然として影響を受けています。さらに、SMIC、YMTC、CXMTを含む特定の中国企業への販売は、特定の施設に対して引き続き禁止されています。

出典: Investing.com