美國國會議員修訂針對中國晶片產業的法案

主要修訂摘要

一項被稱為「MATCH法案」的美國法案，旨在限制中國取得晶片製造技術，其最新版本已大幅縮減範圍。儘管修訂後的法案取消了一些曾引起業界擔憂的廣泛全國性限制，但仍保留了有針對性的限制，特別是針對荷蘭ASML公司的深紫外光（DUV）浸潤式微影設備。

情況概述

《硬體技術控制多邊協調法案》（MATCH法案）在兩黨支持下提出，旨在彌補出口管制漏洞，並使美國政策與日本和荷蘭等盟友保持一致。最初的草案提出了廣泛的限制，這引起了設備製造商的批評，認為可能損害銷售。這個新的、更具針對性的版本正作為替代方案，在眾議院外交事務委員會投票前提交。

對半導體市場的影響

修訂後的法案取消了對美國科林研發（Lam Research）和日本東京威力科創（Tokyo Electron）製造工具的擬議限制，緩解了業界擔憂。然而，它仍然禁止外國公司向中芯國際（SMIC）、長江存儲（YMTC）和長鑫存儲（CXMT）等主要中國晶片製造商銷售設備，用於已被禁止接收美國工具的設施。這維持了對中國半導體產業的壓力，同時試圖為美國設備供應商創造公平的競爭環境。

結論與展望

更新後的MATCH法案代表了美國對半導體技術出口管制採取了更具針對性的方法。儘管其嚴厲程度不如最初的提案，但其立法進程將受到全球晶片產業的密切關注。關鍵重點仍然是與盟國進行外交談判，以建立針對中國技術控制的統一戰線。

常見問題

問：MATCH法案的主要目的是什麼？
答：MATCH法案旨在協調美國及其盟友（主要是荷蘭和日本）之間的技術出口管制，以限制中國在半導體製造和人工智慧方面的發展。

問：哪些公司受修訂法案的影響最大？
答：總部位於荷蘭的ASML公司仍受到對其DUV設備實施的新全國性限制的影響。此外，向包括中芯國際（SMIC）、長江存儲（YMTC）和長鑫存儲（CXMT）在內的特定中國公司銷售設備，對於某些設施仍然被禁止。

來源: Investing.com