ASML 強化 EUV 技術，目標晶片產量提升 50%

關鍵發展摘要

艾司摩爾（ASML Holding）宣布一項重大的技術突破，成功將其極紫外光（EUV）光源的功率從目前的600瓦提升至1,000瓦。這項創新預計將在本世紀末前，使晶片生產能力提高多達50%。

產業概況

作為全球唯一的極紫外光（EUV）微影設備製造商，艾司摩爾向台積電和英特爾等領先晶片製造商供應關鍵設備。這項進展旨在鞏固這家荷蘭公司在市場上的主導地位，以應對來自美國和中國日益增長的競爭，這些國家正積極開發自己的晶片製造技術。

經濟與市場影響

更強大光源的主要好處是提高生產效率。艾司摩爾預計，到2030年，其設備每小時將能處理約330片矽晶圓，較目前每小時220片的速率大幅提升。這種更高的產能預計將降低每片晶片的製造成本，直接影響半導體供應鏈。

結論

這項突破不僅提升了目前的生產能力，也為未來的發展奠定了明確的道路，艾司摩爾的研究人員正以1,500瓦甚至2,000瓦為目標。這種持續的創新鞏固了艾司摩爾的技術領先地位，是未來先進運算晶片生產的關鍵因素。

常見問題

問：艾司摩爾的主要進展是什麼？
答：該公司將其極紫外光（EUV）光源的功率從600瓦提升至1,000瓦。

問：這將如何影響晶片生產？
答：透過讓設備每小時處理更多矽晶圓，到2030年，晶片產量可能增加多達50%。

來源： Investing.com